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电镜附件
电镜附件概述

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近日,临沂大学地质古生物研究所青年教师王岩博士与中科院古脊椎动物与古人类研究所组成的研究团队在《》上联合报道了一件保存有完好的头骨和齿列信息的会鸟幼年个体标本,这项研究促进了人们对从恐龙到鸟类演化过程中牙齿逐渐退化的认识。8.考生在考场内应保持安静,严格遵守考场纪律,对于违反考场规定、不服从监考人员管理和作弊者将按按规定给予处罚。

电镜附件是插入或连接在电子显微镜上实现辅助功能的附属硬件或软件。用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。常用的方法有:超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。对于液体样品,通常是挂预处理过的铜网上进行观察。电镜附件优点:1. 利用扫描透射电子显微镜可以观察较厚的试样和低衬度的试样。2. 利用扫描透射模式时物镜的强激励,可以实现微区衍射。3.进行高分辨分析、成像及生物大分子分析。电镜附件应用领域是宽广的。透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多。无论是物理、化学、生物、医学等基础学科,还是材料、微电子等应用学科都有它的用武之地。

光学仪器

电镜附件技术资料

电镜附件解决方案

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三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X

三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: Leica EM TIC 3X
  • 产地:德国
  • 为您带来的优势 顶级性能 独特的三离子束系统,可获得最佳的截面处理质量,并可高效获得宽且深的切割区域,大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室,徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。 可装配系统 根据您的样品制备需要,可以有针对性地在徕卡EM TIC 3X上装配一体化设计样品台-标准样品台,多样品台或冷冻样品台。 冷冻样品台 针对温度敏感型样品如橡胶或水溶性高分子聚合纤维等,可以使用冷冻样品台对样品进行低温下处理,获得高质量处理结果。样品托和挡板的温度都可达到-150° C。 样品托 多种多样的样品托,适合于各类尺寸样品。 样品TOPO结构清晰可见 除了剖面切割,使用同一样品托还可对样品进行清洁及增强衬度的功能。 Leica EM TIC 3X - 设计和操作方面的创新性特点 高通量,提高成本收益 ;可获得高质量切割截面,区域尺寸可 达>4×1mm;多样品台设计可一次运行容纳三个样 品; 离子研磨速率高,Si材料150μm/ h,50μm切割高度,可满足实验室高通 量要求 ; 可容 纳 最 大 样 品 尺 寸 为 50×50×10mm ;可使用的样品载台多种多样 简单易用,高精度 ;可简易准确地完成将样品安装到载台 上以及调节与挡板相对位置的校准工 作 ;通过触摸屏进行简单操控,不需要特 别的操作技巧;样品处理过程可实时监控,可以通过 体视镜或HD-TV摄像头观察;LED照明,便于观察样品和位置校准 ;内置式,解耦合设计的真空泵系统, 提供一个无振动的观察视野 ;可在制备好的平整的切割截面上可 再进行衬度增强作用,即离子束刻 蚀处理;通过USB即可进行参数和程序的上 传或下载;几乎适用于任何材质样品 ;使用冷冻样品台,挡板和样品温度可 降至150°C L 。

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悬浮灯丝恒流源高压隔离电源FF(电子枪/行波管电源)

悬浮灯丝恒流源高压隔离电源FF(电子枪/行波管电源)

  • 品牌: 西安威思曼
  • 型号: FF
  • 产地:
  • 【型  号】FF【功率(W)】7.5W-37.5W【最大输出电压(kV)】 7.5威思曼高压电源推出的FF模块灯丝电源是质谱仪,电子显微镜,X射线管,行波管等专用超低噪音,高稳定性,小型化输入输出多种隔离电压可选的灯丝电源模块。价格有优势。主要用途:质谱仪、电子枪、离子源、高电压偏置、X射线管,行波管,科学实验,工业应用。FF系列是一款悬浮式灯丝电源,输入输出隔离电压有:5KV,10KV,15KV,20KV,25KV,30KV可选,低纹波,超高稳定性,10ppm低温度漂移,六面屏蔽超低噪声。有过流、短路、拉弧等保护。输入电压:24:24V±1V输入电流:满载:3A输出电压范围:7.5V,输入输出隔离电压:5KV,10KV,15KV,20KV,25KV,30KV可选,最大输出功率:7.5W,11.25W,15W,22.5W,37.5W。电压调整率:0.01%,典型的。负载调整率:0.01%,典型的。稳定性: 每小时0.01%,每8小时0.03%。纹波/噪音:200mV(最大电压和最大电流时),典型的。输出电压控制:通过外部电压控制(0 V 到 +10 V)电压控制输入阻抗:5KΩ输出电压上升时间:100ms(0-99%)温度系数:10ppm/℃温度:工作温度:0℃到50℃储存温度:-20℃到+70℃湿度:工作湿度:80%以下,无冷凝。储存湿度:80%以下,无冷凝。保护功能:模块有输入电压极性接反保护,控制电压大或接反保护,持续的过载保护,短路保护,拉弧保护尺寸:8.07”D×3.94”W×1.69”H(205mm×100mm×43mm)重量:1.5kg 有关威思曼及其更多高压产品的信息,请致电 086-029-33693480或访问其网站: www.wismanhv.com威思曼高压电源有限优德w88,通过ISO9000:2008质量体系认证,优德w88拥有出色的高压电源研发团队,完善的高压电源研发软件和测试软件。全球领先的高电压绝缘技术,完善的零电流谐振技术,使威思曼高压电源始终保持高稳定性、低纹波、低电磁干扰、体积小,损耗小,效率高,长寿命。威思曼高压电源价格有竞争力,是OEM应用的理想选择。 威思曼高压电源有限优德w88是世界具有领导地位直流高压电源和一体化X射线源供应商,同时提供标准化产品和定制设计服务。产品广泛应用于医疗,工业,半导体,安全,分析仪器,实验室以及海底光纤等设备。集设计,生产和服务为一体的工厂分布于美国,英国,及中国等地,并且我们销售中心遍布于欧洲,北美洲以及亚洲,我们将竭诚为您服务!

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2KV PCB可焊高压电源模块(15PPM低温漂/5mV超低纹波/极性接反保护/PMT电源/质谱

2KV PCB可焊高压电源模块(15PPM低温漂/5mV超低纹波/极性接反保护/PMT电源/质谱

  • 品牌: 西安威思曼
  • 型号: MCP
  • 产地:
  • 【型  号】 MCP 【功率(W)】 0.5W,1W 【最大输出电压(kV)】 ,0.3,0.5,0.8,1,1.1,1.25,1.5,2, 【在线订购】 【在线下载】 威思曼高压电源推出的MCP模块高压电源是光电倍增管,质谱仪,电子显微镜等专用超低噪音,高稳定性,小型化模块。价格有优势。 主要用途: 光电倍增管、电离室、正比计数管、盖革-弥勒(G-M)计数管、电泳、透镜、质谱仪、探测器、 探测器、闪烁器、电子束、离子束、静电印刷、高电压偏置、医疗化工,科学实验,工业应用。 MCP系列是一款印制电路板安装式高压电源模块,体积小,超低纹波5mV,超高稳定性,15ppm低温度漂移,六面屏蔽超低噪声。有过流、短路、拉弧等保护。 输入电压: 12±0.5V (可选:-5:5V±1V,-15:15V±1V ,-24:24V±1V) 输入电流: 空载:15mA 满载:95mA 输出电压范围: 0到2000V 或 0到-2000V 最大输出功率: 0.5W,1W。 电压调整率:0.01%,典型的。 负载调整率:0.01%,典型的。 稳定性: 每小时0.01%,每8小时0.03%。 纹波/噪音: 5mV(最大电压和最大电流时),典型的。 输出电压控制:通过外部电压控制(0 V 到 +5 V) 或通外部电位器给定 (50 kΩ ±2.5 kΩ) 电压控制输入阻抗:80KΩ 输出电压上升时间:50ms(0-99%) 温度系数:15ppm/℃ 温度: 工作温度:0℃到50℃ 储存温度:-20℃到+70℃ 湿度: 工作湿度:80%以下,无冷凝。 储存湿度:80%以下,无冷凝。 保护功能: 模块有输入电压极性接反保护,控制电压大或接反保护,持续的过载保护,短路保护,拉弧保护 尺寸:D46 X W24 X H12 重量:31g(1.09 OZ) 有关威思曼及其更多高压产品的信息,请致电 086-029-33693480或访问其网站: www.wismanhv.com 威思曼高压电源有限优德w88,通过ISO9000:2008质量体系认证,优德w88拥有出色的高压电源研发团队,完善的高压电源研发软件和测试软件。全球领先的高 电压绝缘技术,完善的零电流谐振技术,使威思曼高压电源始终保持高稳定性、低纹波、低电磁干扰、体积小,损耗小,效率高,长寿命。威思曼高压电源价格有竞 争力,是OEM应用的理想选择。 威思曼高压电源有限优德w88是世界具有领导地位直流高压电源和一体化X射线源供应商,同时提供标准化产品和定制设计服务。产品广泛应用于医疗,工业,半导体,安全,分析仪器,实验室以及海底光纤 等设备。集设计,生产和服务为一体的工厂分布于美国,英国,及中国等地,并且我们销售中心遍布于欧洲,北美洲以及亚洲,我们将竭诚为您服务!

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加速电极高压发生器

加速电极高压发生器

  • 品牌: 西安威思曼
  • 型号: MRL
  • 产地:
  • 【型  号】 MRL 【功率(W)】 70W-210W 【最大输出电压(kV)】 ,1,1.5,2,2.5,3,5,7.5,10,15,20,25,30,40,50,60,70, 【在线订购】 【在线下载】 外观专利产品 威思曼MRL系列是高稳定精密高压电源模块,MRL系列模块电源提供正高压或负高压输出。MRL系列模块电源可以内、外、计算机精密测控,MRL系列模块电源保护有过压、过流、拉弧、安全互锁等。 典型应用: 质谱仪 材料耐压测试(高压电阻耐压测试,高压电容耐压测试,绝缘材料耐压测试) 静电电场建立 塑料筛选 塑料排序 电容充电 高压闪络 农业育种 除静电 空气净化 工业,科学研究 可选功能: AC交流灯丝电源 USB 计算机USB2.0测控 规格说明: 输入:交直流可选,最大电流4A。 输出:1KV、3KV、4KV、5KV、6KV、7KV、8KV、9KV、10KV、15KV、20KV、30KV、40KV、50KV、60KV、70KV、80KV,100KV,130KV,160KV, 输出功率:1-200W任选 电压控制:电源内部:电源自带的多圈电位器可将输出电压设置在 0V 到最高电压之间。 外部遥控:外部 0 到 10V 控制信号可将输出从0V调到最高输出电压 电源内部:电源自带的多圈电位器可将电子束电流设置 在 0A 到最高电流。 外部遥控:外部 0 到 10V 控制信号可将电子束电流设置 在 0A 到最高电流。 电压调整率: 相对负载:0.01%(空载到额定负载) 相对输入:±0.01%(输入电压变化为±10%) 电流调整率: 相对负载:0.01%(空载到额定负载) 相对输入:±0.01%(输入电压变化±10%)。 纹波电压:输出额定电压前提条件下,纹波电压的峰峰值为最高输出电压的0.1%。更低纹波可以定制。 稳定度:开机半小时后每小时小于25ppm。 温度系数:每摄氏度≤25ppm 工作温度:0 到+50℃。 储存温度:-40 到+85℃。 湿度:20%到85%RH,无冷凝 电压电流指示:0到+10V,额定输出条件下精度为1%。 外形尺寸:正高压:长260mm,宽100mm,高170mm。 负高压:长260mm,宽100mm,高150mm。 冷却方式:自然冷却 连接器: 高压输出连接器:凹进的绝缘导管和探入的高压电缆通过金属连接器连接。高压电缆总长为1米。 输入输出连接器:DB15端子连接器,包含控制和显示信号。

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阴极发光仪

阴极发光仪

  • 品牌:
  • 型号: CL8200 MK5
  • 产地:英国
  • 仪器简介:阴极发光仪可用于石英、方解石、白云石以及钻石等固体样品结构和组成的确定,同时,不会对样品造成任何破坏。阴极发光仪具有换样快速方便,设计简单紧凑,以及易于和岩相学专用显微镜联机的优点。此外,样品室对样品大小的要求范围宽,而且对于适合低温产生阴极光的样品控温能力强。 从80年代开始,阴极发光技术不仅应用在传统的地球科学和行星学领域,而且开创了玻璃、陶瓷、半导体和合成材料等行业的研究和应用;此外,阴极发光技术在法医学、考古学、材料科学领域等新的方向具有发展前途,阴极发光仪与EDS检测器的联机可获得相关样品的X射线光谱特征描述和元素分析。 阴极发光仪在岩石学领域的应用价值已经得到普遍认可,如组份的分区,二次结晶、脱液、共生、断裂填合、辐射环、化石和有机残留物中的骨骼结构、胶结过程的描述、自生长石和自生石英的鉴定、砂岩和页岩的胶结、矿物在分离过程中的辨认等。目前,CAMBRIDGEIMAGETECHNOLOGYLTD(CITL)的100多台产品已经广泛的分布在30多个国家的大学实验室里,在Elf、Gulf、Shell等15个著名石油天然气优德w88以及英国、美国、法国、西班牙、荷兰、阿根廷等国家的研究机构和国家历史博物馆也得到应用。 阴极发光仪也应用于宝石特性的识别(天然石或人造石),人造宝石完美程度鉴定。南非、泰国、荷兰及英国的珠宝鉴定机构及珠宝商使用了该类产品。 CL8200MK5型阴极发光仪是MK4型的升级产品,主要在电子微控制和仪表数字显示方面进行了改进。显示面板新增了控制信息,并且可以根据房间的照明条件进行自动亮度补偿。产品开发还考虑到更换样品时切断束流电压并保证真空泵同时运行,节省了换样时间。另外,还设计了与计算机连接的扩展卡,便于将来仪器的软件升级。在绝大多数应用领域,阴极发光仪只需要少量样品,无需对样品进行涂层等前处理,而且测定过程不会对样品造成任何破坏。阴极发光仪可以根据工作目的安装在各种显微镜上,如偏光显微镜、实体显微镜、金相显微镜等。技术参数:电源:85-265V,50-100Hz交流电源,150W最大输出功率 真空泵:850W最大输出功率 使用环境:温度:<30oC 湿度:<70% 样品室:底部窗口用于显微镜透射光使用,带有精密真空控制阀真空复合管,固态压力计,自动排气阀。 附带电子枪的样品室盖板:TP5型盖板的最短工作距离为5mm。TP9型盖板的最短工作距离为5mm。 微电子控制器 电源输出:在真空度稳定的情况下最高可达到30kV,2mA 开关选择:更换样品开关,自动/手动,电子枪电压开关 预设控制:电子枪功率,电压电流极限,自动显示亮度调整。 数字显示:电压,电流,真空度,操作模式及仪器状态,kV开启,电子枪输出极限,真空控制阀操控,内部电源输出诊断信息,控制参数。 计算机接口:RS 232 电子枪保护:真空连锁装置 辅助选项:两个辅助电源输出 真空:精确自动控制阀,自动排气阀。可通入氦氩等气体。主要特点:真空样品装置平台可以非常便捷地安装在显微镜载物台上。可更换式盖板(内置电子枪、铅玻窗)将电子枪和观察窗相结合,可获得最好的视野效果和有效的高亮度图像,模块化电路设计和真空室盖板工艺可以进行升级和扩展。通常的抛光样品既可直接使用,无需进一步的处理,既可使用薄样品也可以使用厚样品。高真空技术和全构造材料设计,保证了真空度和使用安全,真空度可以很快达到试验条件,一般半分钟以内即可快速更换样品。全自动电子束控制,高速响应真空阀电子控制和稳定的电子束流可达到30Kv的高压,2mA的最大束流。还可将分析附件扩展为EDX、XRF分析仪对样品进行半定量分析。

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Alicona MeX 3D 扫描电镜图像软件

Alicona MeX 3D 扫描电镜图像软件

  • 品牌:
  • 型号: MeX
  • 产地:奥地利
  • MeX 所想即所见! 让您的扫描电镜变成精密的3D测量仪器MeX是一套独立软件,可以轻松地将扫描电镜变成一台精密的表面测量仪器。它可以自动将扫描电镜2维图像信息合成为3D图像信息,形成高度精确、稳定且丰富的3D数据库,用于可追溯的图像测量。无论高倍还是低倍的扫描电镜图像,都可以获得精确的测量结果。 软件自动安装,操作便捷。模块化设计,方便灵活。用户可根据实际需要,采购单项功能模块加以组合。分析模块可测量轮廓,粗糙度,面积,体积和“Z”高度,所有测量功能都可追溯、校准,并且符合ISO分析模块可测量轮廓。 MeX3D图像软件性能卓越,被众多世界顶级优德w88和科研机构采用,如此出众的3D图像获得和分析功能,极大的拓展电镜应用范围,显著提升电镜观测效果。● 任何放大倍数下,都可获得稳定而精确的测量结果 MeX3D图像软件的核心功能,来源于它创新性的3D重构算法。研发团队开发全新算法,可获得高度精确,高度密集且稳定的测量结果。● 自动校准功能的实现,造就可追溯的3D测量 传统3D图像的获得,主要通过两幅图像的整合加以实现。这一方法的主要缺点就是整幅3D图像的测量精度部分依赖于读取图像倾斜角度的准确程度。众所周知,这种读取精度很容易出现错误,并且只能达到一定的准确程度。研发团队的最新技术使得获取3D图像方法扩展到第三幅图像,这一方法使得用户确定参数(比如确定图像倾斜角度)的自动化成为现实。这就成功消除了操作人员的人为影响,并且前所未有的,实现了对扫描电镜3D图像的可追溯的图像测量。●丰富的软件分析功能 MeX具有出色的测量精度和良好的稳定性。 它的精确测量不仅仅体现在良好的视觉效果,其分析和测量也必须符合国际标准。 MeX的操作人性化,粗糙度和面积分析符合EN/ISO标准。 可直接在扫描电镜图像上进行测量。一键操作,即可完成图像的打印和输出。 操作界面和图像实时显示,使得测量的精确度和灵活性完美统一。 可轻松对图像体积进行分析。MeX,将您的扫描电镜变成精密的3D测量系统!配置单●MeX数据库● MeX3D浏览器●MeX3D图像生成器●MeX自动校准器● MeX轮廓测量●MeX面积测量●体积测量● MeX立体对比工具●MeX3D阅读器● MeX真实3D测量● MeX真实3D融合2年e-mail技术支持和免费升级!MeX,将您的想象呈现眼前!

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LUDL电动扫描台

LUDL电动扫描台

  • 品牌:
  • 型号: BioPrecision2
  • 产地:美国
  • 仪器简介: 由于倒置显微镜平台的稳定性和光学性,它在自动控制方面倍受欢迎。在倒置显微镜中,容许将载物台的自由空间设计成最小范围。在倒置显微镜中进行高准确定位是非常具有挑战性的。在倒置显微镜用BioPrecision2系列载物台的设计中,应用了精心设计和熟练制造的最高精度组件,可提供最高准确度。 活细胞用平顶载物台:活细胞显微技术通常需要使用环境舱、探测器、调制器及大量样本。BioPrecision2平顶载物台的表面十分平整且为敞开式,满足了这些要求。BioPrecision2平顶载物台可与所有标准的LEP倒置载物台的嵌入件和附件完全兼容。同时,在BioPrecision2平顶载物台的左右两侧具备一块独特的可移动式的“微型实验电路板”区域,为控制器及探测器的连接提供一个便利点。 技术参数: 1.行程:120 × 100mm2 2.可通过手柄控制 3.步进分辨率:0.05μm 4.重复精度:0.75μm 5.速度:60mm/s 6.重量≤4.3 kg 主要特点: 精度高,应用广泛,适合各种培养板、 Petri皿、玻片。

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布鲁克平插式能谱仪 QUANTAX FlatQUAD

布鲁克平插式能谱仪 QUANTAX FlatQUAD

  • 品牌: 德国布鲁克
  • 型号: Bruker QUANTAX FlatQUAD
  • 产地:德国
  • 革命性的平插式能谱仪 QUANTAX FlatQUADX射线探测的最高效率与灵敏度作为全球第一家商用电制冷能谱仪的厂家,布鲁克对传统斜插型能谱做出革命性的创新,推出了平插式能谱仪FlatQUAD,该款能谱的探头水平放置于电镜极靴的正下方,探头组件由四个独立的硅漂移芯片组成,它们环形排列于中心孔四周,入射电子束从该中心孔穿过。这一设计使得平插式能谱仪在保留高能量分辨率的同时具有超高的计数率和空间分辨率。特别适用于以下领域在低束流和极低束流下(<10 pA) ,分析束流敏感样品,如生物或半导体样品;分析表面不平整样品,消除阴影效应;在低加速电压和高放大倍数下,分析纳米颗粒和纳米结构;可测试超薄样品(如TEM样品)。

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布鲁克扫描电镜用微区计算机断层摄影 Micro-CT

布鲁克扫描电镜用微区计算机断层摄影 Micro-CT

  • 品牌: 德国布鲁克
  • 型号: Bruker Micro-CT
  • 产地:德国
  • SEM Micro-CT 可对样品的微观结构进行二维与三维成像。以二维和三维方式无损呈现样品内部形貌信息无需样品制备分辨率可达 400 nm 像素大小直观且易于使用的三维渲染和可视化软件敢为人先!扫描电镜中真正的3D显微观察技术不管您的扫描电镜是什么型号,将micro-CT安装在SEM上后,均能为您提供真正的3D显微观察技术。在扫描电镜常见的表面形貌观察之外,micro-CT独一无二的为您揭示样品内部三维结构信息,操作简易且对样品完全无损。关键特征一览无损观测样品的内部三维结构信息,且无需任何其它的样品制备以2D或3D的形式视觉化呈现样品的内部结构,并在此基础上进行测量在样品任意方向上,对任一截面结构的视觉化显示,如同在样品中任意穿梭观察一般直观和简单易用的 3D 渲染软件,视觉化为三个正交剖面或切片影片最大样品直径可达4mm,最大样品长度为10mm最小可探测400nm的样品细节

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DE-64直接电子探测相机

DE-64直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-64
  • 产地:美国
  • DE-64常用技术指标 适用的加速电压范围80 keV 1.25 MeV像素点大小6.5 μm像素阵列尺寸8192 × 8192 | 67.1 megapixels成像面积53 × 53 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >50:1 @ 300 keV芯片设计>3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率多达30fps,无bin的完整图像子阵列可>500 fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护电脑系统配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站数据收集&处理软件 常见收集:DE-IM(界面友好的全功能数据采集件)| μManager(免费,开源)原位录像数据收集:DE-StreamPix(连续进行)自动收集:Leginon | SerialEM | EMTools (TVIPS) | 也可使用 DE SDK“影片”式数据处理:DE图像处理软件(免费,开源,以Python为基础) | 定制软件:可提供软件开发包,集成客户软件要求

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DE-16直接电子探测相机

DE-16直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-16
  • 产地:美国
  • DE-16常用技术指标 适用的加速电压范围80 keV 1.25 MeV像素点大小6.5 μm像素阵列尺寸4096 × 4096 | 16.8 megapixels成像面积27 × 27 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >50:1 @ 300 keV芯片设计>3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率多达60fps,无bin的完整图像多达120fps,2×bin的完整图像子阵列可达 1000+ fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护电脑系统配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站数据收集&处理软件 常见收集:DE-IM(界面友好的全功能数据采集件)| μManager(免费,开源)原位录像数据收集:DE-StreamPix(连续进行)自动收集:Leginon | SerialEM | EMTools (TVIPS) | 也可使用 DE SDK“影片”式数据处理:DE图像处理软件(免费,开源,以Python为基础) | 定制软件:可提供软件开发包,集成客户软件要求

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DE-20直接电子探测相机

DE-20直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-20
  • 产地:美国
  • DE-20常用技术指标适用的加速电压范围 80 keV 1.25 MeV像素点大小 6.4 μm像素阵列尺寸 5120 × 3840 | 19.7 megapixels成像面积 33 × 25 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >20:1 @ 200 keV芯片设计 >3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率 多达32fps,无bin的完整图像 子阵列可达 960 fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片 集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定 装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护 芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护 电脑系统 配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站

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DE-12直接电子探测相机

DE-12直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-12
  • 产地:美国
  • DE-12常用技术指标适用的加速电压范围 80 keV 1.25 MeV像素点大小 6.0 μm像素阵列尺寸 4096 × 3072 | 12.6 megapixels成像面积 25 × 18 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >20:1 @ 200 keV芯片设计 >3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率 多达40fps,无bin的完整图像 多达75fps,2×bin的完整图像 子阵列可达 1000+ fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片 集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定 装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护 芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护 电脑系统 配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站 积分模式拍摄下DDD的性能指标曲线DE-12 性能优势DDD相机具有高分辨率、高敏感度、高信噪比4k × 3k(1260万)像素是原位TEM、材料科学、带有能量过滤的高动态范围TEM研究的理想选择,并能进行长时间曝光的数据收集提供“Movie Mode”(有利于漂移校正),并可以记录和存储连续拍摄的图像数据开源软件包集成的法拉第杯,在成像之前判断电子剂量以保护芯片过度曝光,在成像时记录和监控每张照片的拍摄剂量。应用范围广,包括像cryo-EM、STEM、DTEM以及原位TEM都有很好的应用性价比高,提供周到及时的售后服务(苏州德锐特拥有软硬件工程师,服务于中国区的DE相机,并支持共同开发和技术合作)

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德国徕卡Leica EM UC7电镜样品切片机

德国徕卡Leica EM UC7电镜样品切片机

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: EM UC7
  • 产地:德国
  • 德国徕卡Leica EM UC7电镜样品切片机 富瑞博国际有限优德w88代理多家国际知名仪器厂商产品 徕卡EM UC7提供半薄,超薄切片和容易准备,以及样品表面光滑处理,为透射电镜,扫描电镜,原子力显微镜和光镜检验生物和工业样品。 超薄切片的新标准 徕卡EM UC7树立新标准,结合人体工程学设计和创新技术。它的卓越功能,对高技能或初学超薄切片者都能获得利用效益。 为您带来的优势 无纸报告 轻松下载的用户,样品,刀和存储参数,通过USB,到Excel(只通过10.4“控制器) 改进刀,标本的能见度 独三个独立,内置亮度可调的LED光源和额外提供两个卓越的照明LED射灯 你的桌子上更多的工作空间 离子发生器和EM FC7控制集成到徕卡EM UC7单元-没必要额外的控制台 刀使用信息 利用10.4“高端控制器把钻石刀刃分成部分,确保钻石刀刃完整长度的最佳使用(专利申请) 富瑞博国际有限优德w88代理多家国际知名仪器厂商产品 相关产品垂询,敬请与我们联系。富瑞博将为您的实验室提供最优质的服务和解决方案。 富瑞博国际有限优德w88 更多产品请登陆富瑞博官网:www.freeboard.com.cn 电话:020-86290702 传真:020-86290703 邮箱:marketing@freeboard.com.cn

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Horiba X-Max 硅漂移探测器

Horiba X-Max 硅漂移探测器

  • 品牌: 日本堀场
  • 型号: X-Max N
  • 产地:英国
  • X-MaxN 的晶体尺寸从适合于微米分析的20 mm2到纳米材料分析专用150 mm2的共四种可选。尤其是150 mm2为当今晶体面积最大的探测器,分析速度至少是普通探测器的两倍。总览探测器晶体尺寸可选,分别为150 mm2,80 mm2,50 mm2,20 mm2无论晶体面积或大或小,X-MaxN 的分辨率始终如一的好并符合标准ISO15632:2012无论晶体尺寸如何,能谱仪外管尺寸及在电镜中的位置完全一致,确保相同条件下,计数率的增加只源于晶体尺寸的增加强大的低能端分析,所有晶体面积的能谱仪均保证由Be开始与上一代X-Max同,无论SEM或FIB均使用同一界面无论晶体面积如何,优异的性能始终如一因其独特地外置型FET场效应管设计,X-MaxN 的分辨率完全不受晶体面积变化的影响始终如一,且保证全部具有优异的低能端检测性能探测器外管尺寸相同,意味着相同条件下,计数率仅与晶体面积有关保证所有晶体面积的能谱仪均具有优异的能量分辨率出众的低能端分析性能,保证所有尺寸的能谱仪皆可探测到Be元素使用大面积能谱仪意味着:低束流下有足够的计数率尽可能高的实现图像的可视性及准确性无需为能谱分析改变SEM的条件在相同束流下,极大地提高计数率缩短采集时间统计性更高实现小束斑下的能谱分析提高能谱检测的空间分辨率尽可能体现高分辨电镜的优势晶体面积越大,X-射线计数效率越高相同条件下,晶体面积越大:以前需要几分钟完成的工作,现在仅需要几秒钟面/线分布更易获得采集时间相同,可极大地提高分析精度及统计性大面积能谱仪快速获得所有显微分析结果优异的低能端分析性能X-MaxN 为低能端元素的分析做了巨大的优化无论何种尺寸,均前所未有的表现出优异的低能端分析性能所有尺寸的能谱仪均可保证检测到Be,可获得SiLI峰的面分布超大面积的能谱仪均具有优异的低能端分析性能优异的空间分辨率高空间分辨率,X射线扩展区域更小大面积能谱仪可以在低加速电压及低束流下采集X-射线纳米尺度的特征可以更好的被检测到超大面积的能谱仪使高级的纳米分析成为可能

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日立高新磁控溅射器MC1000

日立高新磁控溅射器MC1000

  • 品牌: 日立
  • 型号: MC1000
  • 产地:日本
  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm特点:采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件可处理较厚或较大的样品(选配件)记忆功能可存储常用加工条件规格:

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布鲁克X射线能谱仪EDS QUANTAX

布鲁克X射线能谱仪EDS QUANTAX

  • 品牌: 德国布鲁克
  • 型号: Bruker EDS QUANTAX
  • 产地:德国
  • QUANTAX EDS 系统拥有最佳能量分辨率、最大数据处理能力及最佳几何结构。最佳能量分辨率可确保轻元素和低能量的高效分析新一代 Slim-line 探测器技术能在低束流下实现更高的计数率超高数据处理能力实现最快速测量可完全集成至全新的 ESPRIT 2.0 四合一软件中敢为人先! X射线显微分析是一种在电子显微镜中经常用到的测量固体样品、薄膜、微粒化学成分的分析技术。该技术应用一种能量色散X射线光谱仪(EDS)能同时探测和分析低至Be的所有元素。该技术从一个微米级的样品区域获得元素信息,提供低至0.1%质量百分数的检出限,这些特性使得X射线显微分析成为最灵敏的分析方法之一。 布鲁克电制冷能谱仪独一无二的X-Flash硅漂移探测器(SDD)与顶级的Hybrid脉冲处理技术相结合能获得最佳的能量分辨率和比常规Si(Li)探测器快十倍的测量速度。 布鲁克电制冷能谱仪配有界面友好、功能强大的ESPRIT软件。该软件标配中、英文界面。应用该软件可进行无标样定量分析,和有标准定量分析,或二种方法结合使用。另外,还可进行点、线、面分析,线扫描,面分布,超级面分布,相分析,颗粒分析,钢铁分析,枪击残留物分析等等。QUANTAXESPRIT软件包 直观的图形用户界面显示了所有对分析者而言重要的信息,分析人员一目了然,并可以立即进入最常用的功能。简单的操作理念和直观的向导,集成的"助手"功能,完整的在线帮助,使初学者能很快熟悉分析系统。 该软件交互式、循序渐进式的谱图评价程序对分析者而言尤其重要,尤其是对于非常复杂的分析任务来说。而且,该软件包集成了全球最新修订扩展的原子数据库,一些重要的基本参数有助于提高定性和定量分析的精度。该分析软件的高效性、灵活性和透明性使用户能很快信服并对之满意。

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日立TM3000/TM3030专用能谱仪SwiftED3000

日立TM3000/TM3030专用能谱仪SwiftED3000

  • 品牌:
  • 型号: SwiftED3000
  • 产地:英国
  • 日立高新台式显微镜TM3000/TM3030专用能谱仪SwiftED3000是一种非常有用的样品表面观察和鉴别分析工具。*日立高新台式显微镜TM3000/TM3030专用能谱仪SwiftED3000带有SwiftED3000的TM3000/TM3030的典型配置*日立高新台式显微镜TM3000/TM3030专用能谱仪SwiftED3000内置EDX探测器*带有SwiftED3000的TM3000/TM3030的典型配置*内置EDX探测器特点硼以上轻元素检测。可进行线扫描,面分布图以及多点分析。无需液氮。可在几分钟内快速,轻松分析。可在同一显示器上显示图像和元素数据。规格项目说明探测器类型硅飘移探测器(SDD)能量分辨率154电子伏特(Cu-Kα)(相当于135电子伏特的Mn-Kα)探测元素范围B5 - Am95定性分析自动识别和手动峰值识别定量分析无标样定量分析

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台式扫描电镜TM3000/TM3030专用能谱仪

台式扫描电镜TM3000/TM3030专用能谱仪

  • 品牌: 德国布鲁克
  • 型号: Quantax70
  • 产地:德国
  • 日立高新台式扫描电子显微镜TM3000/TM3030专用能谱仪Quantax70是一种非常有用的样品表面观察和鉴别分析工具。*日立高新台式扫描电子显微镜TM3000/TM3030专用能谱仪Quantax70带有Quantax70的TM3000/TM3030的典型配置*日立高新台式扫描电子显微镜TM3000/TM3030专用能谱仪Quantax70内置EDX探测器特点硼以上轻元素检测。可进行线扫描,面分布图以及多点分析。无需液氮。可在几分钟内完成快速,轻松分析。可在同一显示器上显示图像和元素数据。规格项目说明探测器类型硅飘移探测器(SDD)能量分辨率154电子伏特(Cu-Kα)(相当于135电子伏特的Mn-Kα)探测元素范围B5 - Am95定性分析自动识别和手动谱峰识别定量分析无标样定量分析

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SC7620 ‘MINI’ SPUTTER COATER

SC7620 ‘MINI’ SPUTTER COATER

  • 品牌:
  • 型号: SC7620
  • 产地:英国
  • Quick Overview The SC7620 is a compact, low cost SEM sputter coater. When combined with the optional carbon attachment SC7640-CF or SC7640-CR it makes the ideal low cost SEM sputtering and carbon coating system package. The SC7620 is robust, easy to operate and is backed up with a three-year warranty. Key Features Low cost Simple operation Magnetic deflection sputter coating head Compact design Carbon fibre evaporation option Adjustable height specimen stage Easy to change sputter coating targets - gold/palladium (Au/Pd) standard Built to all the latest safety standards - features include positive break electromechanical interlock which ensures the sputter coating head is electrically isolated when the optional carbon attachment is in use Robust and reliable Three-year warranty

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场发射电镜用镀金机Q150R

场发射电镜用镀金机Q150R

  • 品牌:
  • 型号: Q150R
  • 产地:英国
  • Quorum Technologies - Q150R Rotary-Pumped Sputter Coater/Carbon Coater Q150R Rotary-Pumped Sputter Coater/Carbon CoaterThe Q150R is a compact rotary-pumped coating system suitable for SEM sputtering with noble metals - eg gold (Au), gold/palladium (Au/Pd) and platinum (Pt) - and for carbon coating SEM specimens for EDS and WDS.The Q150R is available in three formats:*Q150R S - a compact rotary-pumped sputter coater, suitable for non-oxidising metals, such as gold (Au) and platinum (Pt)*Q150R E - a compact rotary-pumped carbon fibre coater for SEM applications*Q150R ES - a compact rotary-pumped combined sputter coater and SEM carbon coater

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IM4000型离子研磨系统

IM4000型离子研磨系统

  • 品牌: 日立
  • 型号: IM4000
  • 产地:日本
  • Cross section and sample surface polishing ability combined in a single unit The new Hitachi IM4000 Ar ion milling system makes two milling configurations available in a single instrument. While previously two separate systems were needed to perform both, cross section cutting (E-3500) and wide-area sample surface fine polishing (IM3000), Hitachi's new IM4000 now allows to run both applications within the same machine. Furthermore, the new Ar ion gun design of the IM4000 allows to reduce cross section processing times by as much as 66% compared to the previous E-3500 as the maximum milling rate has been increased to now 300m/h for Si. Also in the IM4000 the sample stage unit can be removed as a whole for convenient specimen setting and cross section cutting edge fine positioning using as external high-resolution optical microscope. Cross Section Milling Conventional mechanical polishing or cutting techniques on soft and composite materials apply significant lateral sheer forces to the sample and often result in cross section surface artefacts such as scratches, smearing, wash-out of softer materials, delamination and other damage. In contrast, ion beam sputtering is a stress-free physical process whereby atoms are ejected from a target material due to bombardment of the target by energetic particles. Mirror-surface quality cross sections are formed by placing an ion beam resistant mask in such way onto a sample surface that one half of the vertically incident ion beam is blocked by the mask. The other half of the ion beam gradually removes the sample material protruding from the mask, so that a straight cross sectional plain is formed below the edge of the protective mask. The range of materials and samples applicable to ion cross section milling is not limited to hard matter; even "soft" samples such as paper, polymers, and even powders allow high-quality sectioning in the IM4000.

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纳米操纵手

纳米操纵手

  • 品牌:
  • 型号: HYBRID-III
  • 产地:韩国
  • 仪器简介:世伦科技专业制造高性能钨灯丝扫描电镜,成功完成微纳米操作机械手和AIS扫描电镜的无缝连接,软硬件配合得当。 应用领域: ● 材料研究 ● 法医和犯罪研究 ● 微尺度精度控制 ● 高分辨分析 ● 显微摩擦学研究 ● 纳米建造 ● 半导体开发生产 技术参数:主要性能 1. 迪卡坐标的独立轴运动 2. 在扫描电镜景深方向,绝对垂直轴的配置, 3. 可选择的X Y轴位置传感器,重复精度好于60nm 4. 小型化的设计,适合任何样品室 5. 多种轻松校准工具的选择 6. 结实耐用, 7. 移动限位采用碰撞,不损失位置信息 8. 从纳米到厘米行程,纯压力驱动,没有外加电机。 9. 1nm的探针分辨率 10.至少1微米的定位精度 11.整个操纵器低至10nm的的减震装置 12. 行程可在5~50mm范围内选择 13. 模块化设计方便选择每个轴的尺寸和行程 14. 操纵器独立稳定,不影响样品的自由移动 15. “微手提钻头”方式处理的材料可达50g 16. 可为适合任何扫描电镜有效使用的操纵器提供足够的信息交换网络电子附件 17. 通过不同的探针技术来实现传感器和执行机构的可靠接触 18. 可选择包括电子器件和软件力反馈 19. 不同的显微镊子系列 20. 升级成晶圆探测系统 21. 可选择 显微拉力装置 22. 可选择模式识别的可视系统 23. 获得大量有价值的项目:带有适配器的微型传感器和执行机构 24. 可提供2-5自由度的高精度定位样品台,形成一个有机纳米操纵系统 25. 三个级别的软件控制:动态链接库,手动控制,自动控制主要特点:The Nano manipulators can easily be installed in any member of the series of AIS SEM. Within the microscope chamber the Nano manipulators are mounted on an additional flange on the door, pointing towards the sample stage. If the door is opened the manipulators come out in the same way as the sample stage. First assembling and testing steps can be performed in air, perhaps visualized by a long working distance optical microscope. After closing the door the combination of Nano manipulator and SEM leads to a powerful tool as a workbench. All manipulators are available as complete system, for example including : - Individual vacuum chamber design, assembly systems - Cable harness, feed-through - Electronics, software, (Force Feedback-) joysticks - Tip holders, different probe tips, including electrical support - Different approach electronics for all kind of probe tips and samples

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粒度分析软件

粒度分析软件

  • 品牌:
  • 型号: AIS
  • 产地:韩国
  • 仪器简介: AIS图像分析软件是AIS系列扫描电镜的图像处理分析软件 AIS图像分析软件之一的颗粒度软件是从金相分析软件应用而高度发展起来的,为工业材料科学家和工程技术人员提供诸如材料分析分枝中的,晶粒度、相分析、结构分析、显微硬度、膜层厚度等功能。程序遵从美国材料试验协会(ASTM)材料标准,目的是通过一个单一软件包简化试验流程,把工作中所有涉及到的项目,形成可接受的指令同时启动,生成所有项目的报告。 典型应用领域 -金相晶粒度分析 -粉末粒度分布 -布料孔隙度分析 -过滤材料孔隙率分析 -多区域计算 - 等等 技术参数: 粒度计算 图像变换二值化处理 粉末样品的粒度分析,固体材料中颗粒相分布分析,材料孔隙率分析等 阈值分割多相分析 相晶粒度或其他应用 1. User can take average grain size, number of intercepts, mean intercept length, and total line length. 2. Grain boundary determined by threshold value. 3. User can select the number of test line. 4. User can select Intercept pattern types such as horizontal, vertical, circle, diagonals, left slant, and right slant. 5. Data table manages analysis statistics from experiment result. 显微硬度分析 1. User can take indentation object when adjust two boundary bar. 2. User can select the type of indentation as knoop and vickers. 3. User can adjust area filter for which taken acceptable size of indentation. 4. User inputs test load value to force diamond indenter using a calibrated machine. 5. Data table display area, length, hardness of each indentation. 6. Statistics display field area, minimum, maximum, mean, and standard deviation of the hardness. 膜层厚度分析 1. User can take coating range when adjust two boundary bar. 2. User can select the number of test line 3. User can adjust Area filter for which taken acceptable size of coating. 4. Data table display bin, count, and percentage of thickness. 5. Statistics display field area, minimum, maximum, mean, and standard deviation of the thickness. 主要特点: 主要特点 提供完全准确可靠的图像分析一体化解决方案 提供更加简单、快捷和更精确的图像分析方法 提供简单易学模式:软件使用了材料分析通用的习惯用语,对话框使用材料专业术语,依照标准操作顺序,采用用户导向的界面帮助客户非常容易地处理从采集到分析的每一张图像。

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MonoCL4

MonoCL4

  • 品牌:
  • 型号: MonoCL4
  • 产地:英国
  • 仪器简介:MonoCL4 is the next generation in the world-leading family of cathodoluminescence (CL) systems from Gatan. It is available in 4 configurations to suit the widest range of applications and requirements: MonoCL4, MonoCL4 Swift, MonoCL4 Plus and MonoCL4 Elite. The MonoCL4 family are all compatible with conventional, low vacuum or field emission SEMs, combined FIB/SEMs and ion microscopes. Special versions are available for microprobes, (S)TEMs or UHV chambers. There is also full compatibility with Gatan’s range of nitrogen cooling stages and helium cooling stages for enhancing the CL signal and increasing spectral discrimination. Gatan’s quantitative EBIC system, SmartEBIC can also share the MonoCL4 platform.主要特点:The MonoCL4 family of products provides a range of high performance CL solutions individually engineered to your microscopy needs. The core MonoCL4 product offers: Panchromatic and monochromatic imaging with high spatial and spectral resolution ‘Point and click’ selection of spectroscopy, imaging and mapping modes Shortpass, longpass and bandpass imaging using filter options for increased flexibility Detector and diffraction grating options optimised for your application in the ultra violet, visible and infra red wavelength ranges Computer and/or manual control of detector settings Factory recorded spectral response files Enhanced sensitivity in the ultra violet and infra red wavelengths UV optimised option, allowing analysis to wavelengths below 200 nm Time evolved signal monitoring New design and software features make the interchange of gratings easier than ever whilst maintaining spectral calibration The modular structure allows convenient and cost effective upgrade paths to the premium packages or to extend the useable wavelength range using additional detectors. MonoCL4 Swift MonoCL4 Swift is as MonoCL4 but includes an additional array detector enabling Rapid ‘parallel’ spectral acquisition for superior productivity Crucial to obtaining results from beam sensitive specimens MonoCL4 Plus MonoCL4 Plus is as MonoCL4 but offers even greater sensitivity and flexibility. It includes a cooled, high sensitivity PMT and the high performance DigiScan II digital beam control system, for high-bit image acquisition, processing and analysis, enhancing SEM imaging performance and extending applications. Simultaneous acquisition of multiple imaging and mapping inputs Wide flexibility of pixel density and dwell times key for many CL applications Quantitative pulse mapping (complements standard analogue imaging) Linescan mapping function Multiple image overlay facility with drift correction MonoCL4 Elite MonoCL4 Elite is the ultimate CL package, including all of the specification of MonoCL4 and combining the speed of MonoCL4 Swift with the sensitivity of MonoCL4 Plus. It also incorporates advanced analysis options using Gatan’s industry leading spectrum-imaging (SI) software. Allows bandpass images to be extracted as a post-processing step. MLLS fitting of data using reference spectra to produce fit-coefficient maps Gaussian curves can be fitted to spectra providing amplitude, peak-shift & -width mapping. Useful for mapping changes in alloy composition and stress mapping in semiconductor and ceramic materials Sub-pixel scanning for improved statistical confidence Stage mapping option for extended field of view Simultaneous SI acquisition of other signals available e.g. EDS or EELS

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ALTO 1000 Cryo-transfer for SEM 扫描电镜冷冻传输系统

ALTO 1000 Cryo-transfer for SEM 扫描电镜冷冻传输系统

  • 品牌:
  • 型号: ALTO 1000
  • 产地:英国
  • 仪器简介: ALTO 1000 is an exciting new concept in cryo-SEM. Depending on the user’s applications and requirements, exactly the correct configuration of cryo-system can be specified. ALTO 1000 is a new, compact, easy to use cryo-system, designed to give optimum results with tungsten SEM and combined SEM-FIB microscopes at both high- and low-vacuum conditions. The guiding principals of the ALTO range have been followed i.e. unrivalled visibility and convenience in use, plus high performance due to excellent temperature control, anti-contamination, fracturing and coating facilities. 主要特点: Applications guide Every cryo-system user has different applications and detailed requirements, so this table should only be used as a guide. To fine tune your system specification and to consider the wide range of accessories on offer, please contact us to discuss. System version Typical applications ALTO1000A Polymers, other beam sensitive materials, surface studies of low water content materials, requires imaging of uncoated specimens ALTO1000B All life science materials, soft solids, surface studies, requires imaging of uncoated specimens ALTO1000C Plant surface studies, low water content materials and soft solids including fracture surfaces, requires imaging of uncoated specimens ALTO1000D All life science materials, soft solids, suspensions, emulsions, including fracture surfaces, requires imaging of uncoated specimens ALTO1000E All life science materials, soft solids, suspensions, emulsions, including fracture surfaces, additional imaging performance available from coated material

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TEM/SEM两用Plasma Cleaner等离子清洗机

TEM/SEM两用Plasma Cleaner等离子清洗机

  • 品牌:
  • 型号: Softclean
  • 产地:美国
  • Chamber dimensions 8.5” (216 mm) diameter x 5 .5” (140 mm) height SEM, FIB, TEM sample Pre-cleaning TEM Sample holder plasma Cleaning Sensitive Sample Storage using N2 or high vacuum Adaptor flanges for all major manufacturers of TEM sample holders available 可选TEM WAND原位透射极靴清洁样品杆

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TEM专用等离子清洗机

TEM专用等离子清洗机

  • 品牌:
  • 型号: Combiclean
  • 产地:美国
  • 创新型设计 完美全面的清洗解决方案。Evactron CombiClean 清洗系统为透射样品,样品杆以及透射极靴等其他分析设备提供了桌面式清洗平台,帮助客户清洗样品以及电镜部件,去除其存在的碳污染问题。同时也提供了外置等离子发生器用于电镜腔体清洗方案。系统操作简单,检测器可以智能控制多个等离子发生器单元,控制器自由切换可以通过不同发生器的工作模式。系统支持旋叶机械泵,从而防止油污染。提供干燥氮气保护环境,保证经等离子清洗过后的样品可以长期保存,此时不影响其他等离子发生器的使用。应用 Evactron CombiClean 系统可以提供外置式等离子发生器,用于扫描电镜、透射电镜和双束电镜,同时也可以清洗透射样品杆以及气塞。结合使用Evactron TEM Wand透射电镜等离子清洗杆,可以清洗透射电镜样品、部件以及真空腔内部。系统特性 系统通过内部的处理器,由MicroPirani 软件对于真空度以及功率进行智能控制。处理器可以对等离子发生器进行定时清洗控制以及氮气保护循环。系统保留操作日志。操作可以通过前置面板或者电脑完成。可选TEM WAND原位透射极靴清洁样品杆

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电镜专用Plasma Cleaner

电镜专用Plasma Cleaner

  • 品牌:
  • 型号: Evactron
  • 产地:美国
  • 高真空的扫描电镜,聚焦离子束FIB系统,由于样品,操作,油污,FIB的气体注入系统带来的碳氢污染物会累积在样品室表面,以及探测器包括EDX窗口,进而影响系统分辨率,清晰度,真空度以及稳定性。Evactron等离子清洗机适用于任何扫描电镜,她可以很好的解决这些困扰电镜使用者的污染问题.仪器信息网关于如何原位去除电镜高真空碳氢污染物置顶贴:http://www.jc3associates.com/ydw88wz/shtml/20110223/3140655/

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氩离子截面抛光仪

氩离子截面抛光仪

  • 品牌: 日本电子
  • 型号: IB-09510CP
  • 产地:日本
  • 氩离子截面抛光仪(CrossSectionPolisher,简称CP),凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践,是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域革命性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来,在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来,在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工,用其他方法难以制备的样品,软硬材质混合的复合材料,都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外,被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。 SM-09010是第一代产品,推出后在全世界广收好评,到2012年全球共计卖出超过1000台。CP目前的最新型号有两种,IB-19500CP和IB-19510CP。两种型号仪器外观完全相同,只是触摸控制屏显示区域不完全一样。IB-19500CP的触摸显示屏只用于控制仪器操作,IB-19510CP仪器内部装有一个CCD,可以对样品的制备过程进行实施监控,触控屏的变焦按钮能在20~100倍的范围内调节。

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软X射线分光谱仪

软X射线分光谱仪

  • 品牌: 日本电子
  • 型号: SXES
  • 产地:日本
  • 电子光学仪器上发射的电子束与样品发生复杂的交互作用,产生各种信号,收集不同信号进行分析,可以获得样品的各种不同信息。软X射线分析谱仪就是通过采集样品上被激发出来的软X信号进行分析的仪器。它的能量分辨率为0.3eV,远高于能谱仪(EDS)和波谱仪(WDS)的分辨率;对轻元素的定量分析非常准确,比如B元素的检出极限可达20ppm;还可以进行元素价态分析。将扫描电镜从以侧重图像为主的仪器变身为图像、成分、价态均可清晰表达的超级分析仪器。也将电子探针的分析能力大幅度提升。 详情请咨询日本电子株式会社在中国的全资子优德w88捷欧路(北京)科贸有限优德w88及其各分支机构。

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精密隔振平台/减振平台

精密隔振平台/减振平台

  • 品牌:
  • 型号: FP-1
  • 产地:美国
  • FP-1地面式隔振平台/减振平台专为扫描电镜和透射电镜所设计 Hitachi S-4800 扫描电镜在3层地面式隔振平台/减振平台上 LEO 1550 扫描电镜在2层地面式隔振平台/减振平台上 平面视图FP-1 JEOL JEM 1400 透射电镜在5层楼.

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精密隔振平台/减振平台

精密隔振平台/减振平台

  • 品牌:
  • 型号: SM-1
  • 产地:美国
  • SM-1大型仪器震动隔离平台/减振平台 主要面向高载荷环境,本类定制化平台通常配有两台或三台SM-1隔离器/减振平台,能够支承10000磅的最高载荷。典型用途为SEMS扫描电子显微镜,TEMS透射电镜和其他大型度量工具或制造工具。

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精密隔振平台/减振平台

精密隔振平台/减振平台

  • 品牌:
  • 型号: MK52
  • 产地:美国
  • MK52超低频率隔振平台/减振平台 新型符合人体工程学设计的超低频率隔振平台/减振平台 最新的MK52系列振动控制、隔离工作台具有更舒适的人体工学设计,专门面向超低固定频率应用领域。该系统采用了MinusK专利负刚度振动隔离器使之成为一台紧凑的被动式隔振台/减振台,它具有超低的固定频率,较高的内部结构频率和卓越的垂直隔离和水平隔离效率。升级之后的MK52为您带来更好的使用体验和额外的底架空间。 MK52系列的终极性能适用于大量仪器应用领域,如分析天平,细胞注射,共焦显微镜,膜片钳,光学显微镜,晶圆测试,传感器标定,原子力显微镜和其他领域如半导体加工,电信,航空航天工程和医学研究方面的敏感设备。本产品附带Kinetic System动力系统。 MinusK垂直隔离器采用了刚性弹簧和负刚度机制,达到极低净垂向刚度,而净符合支持能力则未受到丝毫影响。 水平振动阻隔效果由梁柱与垂直运动隔离器串联实现。 只要调整至1/2 Hz固定频率,该工作站就能实现2Hz下93%的阻隔效率,5Hz下99%的阻隔效率和10Hz下99.7%的阻隔效率。 特点/优势: 最新人体工程学设计 超低固有频率 阻振结构 可定制配件 无需送气使用便捷 最佳台面 人体工学造型 兼容100级洁净室 可达到10级性能 可选择花岗石,钢制品,合成材料和蜂窝材料作为桌面。

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精密隔振平台/减振平台

精密隔振平台/减振平台

  • 品牌:
  • 型号: WS-4
  • 产地:美国
  • WS-4精密隔振平台/减振平台 经济型隔振平台,负重至1000lbs,1/2垂直和水平频率. 工作台重量:大致134 磅(62 kg) 绝缘体重量:大致80磅 (36 kg) 平台重量:大致54 磅(25 kg) 尺寸: 24" W x 24" D x 33" H (610mm W x 610mm D x 762mm H) 型号 近似载荷范围(可定制自己所需的载荷范围) 100WS-4 60 - 100 lb(27 - 48 kg) 150WS-4 90 - 155 lb(41 - 70 kg) 250WS-4180 - 270 lb(82 - 123 kg) 350WS-4 290 - 370 lb(132 - 168 kg) 500WS-4 360 - 525 lb(164 - 239 kg) 650WS-4 500 to 680 lb(227 - 309 kg) 绝缘体重量:大致 90 磅(36 kg) 850WS-4 630 - 900 lb(285 - 408 kg) 1000WS-4 890 to 1050 lb(403 - 476 kg) 技术参数: 整个载荷范围内均可达到1/2 Hz的垂直频率或更低 平固定频率取决于载荷。额定载荷或接近额定载荷时可达1/2 Hz或更低 易于安装于调校 部件号:WS-4 Stand 重量:大致 54磅 (25 kg) 尺寸: 24" W x 24" D x 23" H(610mm W x 610mm D x 533mm H)

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